plasma等离子清洗机厂家：石墨烯等离子体蚀刻的研究
plasma等离子清洗机厂家石墨烯等离子体蚀刻的研究：
自2004年之后，关于石墨烯的研究报道层出不穷，在 science、nature上的相关报道就有几百篇。关于石墨烯的研究可追溯到20世纪70年代，clar等利用化学方法合成一系列具有大共轭体系的化合物，即石墨烯片。此后，schmidt等科学家对其方法进行改进，合成了许多含不同边缘修饰基团的石墨烯衍生物﹐但这种方法不能得到较大平面结构的石墨烯。2004年，geim 等以石墨为原料，通过微机械力剥离法得到一系列叫作二维原子晶体(two-dimensional atomic crystals)的新材料“石墨烯(graphene)”。“石墨烯”又名“单层石墨片”，是指一层密集的、包裹在蜂巢晶体点阵上的碳原子，碳原子排列成二维结构，与石墨的单原子层类似。geim等利用纳米尺寸的金制“鹰架”，制造出悬挂于其上的单层石墨烯薄膜，发现悬挂的石墨烯薄膜并非“二维扁平结构”，而是具有“微波状的单层结构”，并将石墨烯单层结构的稳定性归结于其在“纳米尺度上的微观扭曲”。
石墨烯是一种零带隙材料，即使在室温条件下，电子和空穴都可以连续存在。载流子浓度可以高达10 -13cm3，迁移率可以超过20000cm2/v·s。石墨烯的理论比表面积高达2600m2/g， 具有突出的导热性能(3000w/m·k)和力学性能(1060gpa)。此外，它的特殊结构，使其具有半整数的量子霍尔效应、消失的电导率等。由于具有很好的二维传输特性和高的导电率，石墨烯既可以用作沟道材料又可以用来进行后段互连。当然不同的使用对蚀刻工艺的要求也 不同。而石墨烯在芯片制造应用中面临着两个难题:一是如何大面积连续生长高质量薄膜; 二是如何图案化。其中第二方面更是与蚀刻工艺息息相关。相比之下，大面积生长方面已有大量研究，但在图案化方面的工作却并不是很多。这是因为本身生长大面积石墨烯就比较困难，而兼具两方面研发能力的就更少。
总的来看，对石墨烯一般有氧气、氢气、氩气等几种等离子体的蚀刻方法。这其中又以氧气和氢气等离子体蚀刻较多。它们利用石墨烯的高活性与之进行反应，一般会沿60°或120°将大面积层状石墨烯分割开来。
以上就是诚峰智造plasma等离子清洗机厂家对石墨烯等离子体蚀刻的研究一些介绍。
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石墨烯是一种零带隙材料，即使在室温条件下，电子和空穴都可以连续存在。载流子浓度可以高达10 -13cm3，迁移率可以超过20000cm2/v·s。石墨烯的理论比表面积高达2600m2/g， 具有突出的导热性能(3000w/m·k)和力学性能(1060gpa)。此外，它的特殊结构，使其具有半整数的量子霍尔效应、消失的电导率等。由于具有很好的二维传输特性和高的导电率，石墨烯既可以用作沟道材料又可以用来进行后段互连。当然不同的使用对蚀刻工艺的要求也 不同。而石墨烯在芯片制造应用中面临着两个难题:一是如何大面积连续生长高质量薄膜; 二是如何图案化。其中第二方面更是与蚀刻工艺息息相关。相比之下，大面积生长方面已有大量研究，但在图案化方面的工作却并不是很多。这是因为本身生长大面积石墨烯就比较困难，而兼具两方面研发能力的就更少。
总的来看，对石墨烯一般有氧气、氢气、氩气等几种等离子体的蚀刻方法。这其中又以氧气和氢气等离子体蚀刻较多。它们利用石墨烯的高活性与之进行反应，一般会沿60°或120°将大面积层状石墨烯分割开来。
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