一文让你搞懂真空等离子清洗设备
根据使用，可以选择多种结构的等离子清洗设备，通过选择不相同种类的气体、调整装置的特征参数等方法化工艺流程，但等离子清洗装置的基本结构大致相同，一般装置由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体输入系统、工件输送系统和控制系统等部分构成真空泵一般采用旋转油泵，
高频电源一般采用13.56m赫兹无线电波，设备运行过程如下：
(1)将清洗过的真空室固定在一起，启动运转装置，开始排气，使真空室的真空度达到10帕标准真空。通常的排气时间需要2分钟左右。
(2)将用于清洗的气体引入真空室，并将压力保持在100pa。
根据清洗材料的不同，可以选择氧气、氢气、氩气或氮气。
(3)在真空室内的电极和接地装置之间施加高频电压，破坏气体，通过光辉放电产生离子化和等离子化。使真空室产生的等离子体喷射到物体表面，开始清洗作业。通常清洁处理持续几十秒到几分钟。
(4)清洗后切断高频电压，排出气体和蒸发污垢，同时将空气鼓入真空室，使气压上升到大气压。
与湿式清洗相比，等离子清洗的优势如下:
(1)清洗完毕后，被清洗物已干透，无需再经过干燥处理即可送至下道工序。
(2)不使用三氯乙烯ods有害溶剂，清洗后不产生有害污染物，是一种环保的绿色清洗方法。
(3)无线电波范围内的高频等离子体与激光等直射光不同，其方向性不强，因此能够深入物体的细孔和凹陷内部完成清洗任务，因此不度考虑被清洗物体形状的影响，这些难以清洗的部分的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似
(4)整个清洗工艺流程在几分钟即可完成，因此具有效率高的特点。
(5)等离子清洗所需真空度约为100pa，在工厂实际生产中易于实现。设备成本较低，清洗过程无需使用昂贵的有机溶剂，运行费用较传统清洗工艺低。
(6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施，生产现场易于保持清洁卫生。
(7)等离子清洗的技术特点是无论对象如何，都可以处理不同的基材，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)此外，材料的整体、局部或复杂结构也可以有选择地。
(8)在明确去污效果的同时，还可以改变材料本身的表面性质，例如提高表面的润湿性、提高膜的附着力等，这在很多应用中都很重要。
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(2)将用于清洗的气体引入真空室，并将压力保持在100pa。
根据清洗材料的不同，可以选择氧气、氢气、氩气或氮气。
(3)在真空室内的电极和接地装置之间施加高频电压，破坏气体，通过光辉放电产生离子化和等离子化。使真空室产生的等离子体喷射到物体表面，开始清洗作业。通常清洁处理持续几十秒到几分钟。
(4)清洗后切断高频电压，排出气体和蒸发污垢，同时将空气鼓入真空室，使气压上升到大气压。
与湿式清洗相比，等离子清洗的优势如下:
(1)清洗完毕后，被清洗物已干透，无需再经过干燥处理即可送至下道工序。
(2)不使用三氯乙烯ods有害溶剂，清洗后不产生有害污染物，是一种环保的绿色清洗方法。
(3)无线电波范围内的高频等离子体与激光等直射光不同，其方向性不强，因此能够深入物体的细孔和凹陷内部完成清洗任务，因此不度考虑被清洗物体形状的影响，这些难以清洗的部分的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似
(4)整个清洗工艺流程在几分钟即可完成，因此具有效率高的特点。
(5)等离子清洗所需真空度约为100pa，在工厂实际生产中易于实现。设备成本较低，清洗过程无需使用昂贵的有机溶剂，运行费用较传统清洗工艺低。
(6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施，生产现场易于保持清洁卫生。
(7)等离子清洗的技术特点是无论对象如何，都可以处理不同的基材，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)此外，材料的整体、局部或复杂结构也可以有选择地。
(8)在明确去污效果的同时，还可以改变材料本身的表面性质，例如提高表面的润湿性、提高膜的附着力等，这在很多应用中都很重要。
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