UV光解除臭设备适用范围
uv光解除臭设备适用范围uv光解除臭设备技术原理:
一、uv光解除臭设备利用特制的高能高臭氧uv紫外线光束照射废气，裂解工业废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物h2s、voc类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如co2、h2o等。
二、利用高能高臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。
uv＋o2→o-+o＊(活性氧)o+o2→o3(臭氧)
臭氧对有机物具有的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有的清除效果。
三、工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能uv紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
四、利用高能uv光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（dna），再通过臭氧进行氧化反应，*达到净化及杀灭细菌的目的．
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