轨道蚀刻技术基础介绍
聚合物原料薄膜的发束
重离子由离子源产生，然后由回旋加速器加速至高达4 mev/uma的能量。
对于光束，聚合物薄膜在真空下通过扫描离子束以恒定速度解绕;因此，轨迹密度（或所需的孔密度）由离子束强度和薄膜速度精确定义。
薄膜被拉过弯曲辊以增加轨道的角度展开，从而通过避免平行的双轨道来提高膜过滤器的选择性。
束状聚合物薄膜的化学蚀刻
在光束过程中产生的线性轨迹主要以大分子链断裂、高度亲水化学基团和自由真空为特征。
因此，轨道比周围的本体聚合物对化学物质更敏感，并且可以选择性地蚀刻，导致它们暴露在孔隙中。
化学蚀刻通常使用浓度和温度控制良好的碱性水溶液进行。 它的主要特点是轨道蚀刻速率（vt）和体蚀刻速率（vg). 高比率vt/vg 需要获得具有圆柱形孔的均匀膜过滤器。
孔径由蚀刻条件定义，而孔密度由光束参数定义。 因此，孔径和孔密度可以独立选择。
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