通用CVD设备 MPCVD-50
通用cvd设备 mpcvd-50 是一种多功能管式炉式热cvd设备，适用于各种应用，例如cnt合成、碳膜形成、纳米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。
该设备具有以下特点和功能：
多功能应用：mpcvd-50 可用于合成碳纳米管（cnt）、在粉末样品上沉积碳以及沉积各种cvd薄膜，如硫族化物层状材料的氮化处理和成膜等。它的多功能性能使其适用范围广泛。
气体控制系统：设备配备三个质量流量气体流量控制系统，可实现精确的气体控制。这样，用户可以根据需要精准地控制反应气体的流量和比例，确保反应的质量和可重复性。
液体燃料引入系统：mpcvd-50 设备还配备了液体燃料（如乙醇）的引入系统，可应用于无法安装碳氢化合物气体的场所。这样，用户可以在不受气体限制的情况下进行实验和研究。
高度可扩展性：设备具有高度可扩展性，可以轻松处理任何类型的处理需求。无论是在研究还是生产环境中，mpcvd-50 都能适应不同规模和应用的需求。
具备标配真空排气系统：设备标配真空排气系统，可用作真空炉、气氛炉等。这样，用户可以根据需要在不同的气氛条件下进行反应和处理，并且具备更大的灵活性。
紧凑坚固的外壳设计：mpcvd-50 设备采用紧凑坚固的外壳设计，易于安装在桌面实验室工作台等上。其精心设计的结构确保设备的稳定性和可靠性。
此外，mpcvd-50 设备还配备了其他重要组件和功能，如管式炉、可编程温度控制器、质量流量控制器、波登管真空计、旋转泵等。这些组件和功能的整合使得设备操作简便，效果稳定可靠。
总而言之，通用cvd设备 mpcvd-50 具备多功能的应用特性，适用于各种气相沉积需求。其精确的气体控制系统和液体燃料引入系统确保了精准的实验和研究结果。设备的高度可扩展性和紧凑坚固的外壳设计使其成为实验室和生产环境中的理想选择。
关键词：工作台 温度控制器 质量流量控制器 真空计
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气体控制系统：设备配备三个质量流量气体流量控制系统，可实现精确的气体控制。这样，用户可以根据需要精准地控制反应气体的流量和比例，确保反应的质量和可重复性。
液体燃料引入系统：mpcvd-50 设备还配备了液体燃料（如乙醇）的引入系统，可应用于无法安装碳氢化合物气体的场所。这样，用户可以在不受气体限制的情况下进行实验和研究。
高度可扩展性：设备具有高度可扩展性，可以轻松处理任何类型的处理需求。无论是在研究还是生产环境中，mpcvd-50 都能适应不同规模和应用的需求。
具备标配真空排气系统：设备标配真空排气系统，可用作真空炉、气氛炉等。这样，用户可以根据需要在不同的气氛条件下进行反应和处理，并且具备更大的灵活性。
紧凑坚固的外壳设计：mpcvd-50 设备采用紧凑坚固的外壳设计，易于安装在桌面实验室工作台等上。其精心设计的结构确保设备的稳定性和可靠性。
此外，mpcvd-50 设备还配备了其他重要组件和功能，如管式炉、可编程温度控制器、质量流量控制器、波登管真空计、旋转泵等。这些组件和功能的整合使得设备操作简便，效果稳定可靠。
总而言之，通用cvd设备 mpcvd-50 具备多功能的应用特性，适用于各种气相沉积需求。其精确的气体控制系统和液体燃料引入系统确保了精准的实验和研究结果。设备的高度可扩展性和紧凑坚固的外壳设计使其成为实验室和生产环境中的理想选择。
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