平面研磨抛光设备生产工艺流程

平面研磨抛光设备生产工艺流程
平面研磨抛光设备大致有以下7种生产工艺流程,每个流程都有控制精度要求,每个环节都,少一样都是能决定精度的好与坏。
1、平面研磨抛光设备平整度:
工件的平整度取决于磨盘的平整度,随着加工领域的不断深化及精度和效率要求越来越高:从铸铁盘、合成盘、铜盘、纯锡盘、树脂盘发展到金刚石盘,并通过各种方法把盘的平面订修到达1um。
2、平面研磨抛光设备粗糙度:
表面粗糙度取决于磨料颗粒的大小、形状和磨盘的材料, 以及工件材质及硬度。
3、平面研磨抛光机粗磨:
利用较粗颗粒度的磨料在磨盘与工件面上磨削,进刀量大、效率高;但磨削面较粗,适用于磨削余量较多之工作。
4、平面研磨抛光机中磨:
利用中度颗粒的磨料在磨盘与工件面上磨削,进刀量快、效率高,表面粗糙度适中,适合磨削量一般之工件。
5、平面研磨抛光设备精磨:
利用较细颗粒度的磨料在磨盘中与工件面上磨削,进刀量较小、表面光洁度好,磨削痕均匀而细。
6、平面研磨抛光机软抛光:
利用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光布,抛光料在抛光垫或抛光布之间运动,使工件比硬抛光更有超镜子一样的高光洁度。
7、平面研磨抛光设备硬抛光:
利用合成盘、铜盘、锡盘、树脂盘等非常高精密度的基面加入微米级金刚石磨料,使工件表面变得既高精密平面度,又有像镜子一样的高光洁度。

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