半导体用高浓度臭氧水与药液的效果比较
半导体用高浓度臭氧水与药液的效果比较
使用臭氧水 使用药液
①仅次于氟素的强氧化能力
去除金属，有机物强力有效
①使用盐酸，硫酸，双氧水等具有强酸性的药液，并且药液具有100℃左右的高温，操作时要十分注意。
②臭氧水处理后形成氧化膜，（0.8nm左右）→晶片表面具有亲水性 →晶片表面粒子数少 ②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多（为了除去粒子）
③臭氧成分通过自然蒸发，或者通过使用简易臭氧分解设备， 从而使工厂排水变为可能。
→臭氧水易蒸发，立刻变成纯水
→可以使用工厂废水管道排放臭氧水
→纯水可循环利用
③药液使用后，使用工厂的废液处理设备中和处理。
→ 药液不可循环使用
④消耗材料价格低
→基本上只需支付氧气费用和电费
④药液成本高。（以使用浴槽式设备清洗为例计算）
◯半导体（清洗）
◯fpd，液晶（清洗）
◯mems，传感器（清洁）
◯硬盘（清洗）
◯太阳能电池（清洁）
◯医疗（洗手，纯净水管道清洗）
◯食品（洗手，消毒，除臭）
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关键词：传感器 电池
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