光学薄膜的特点及测厚检测设备介绍

光学薄膜的特点及测厚检测设备介绍
由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。
光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。
测量方法非接触式/光谱干涉仪
测量对象电子、光学用透明平滑薄膜、多层薄膜
测量原理光谱干涉仪
产品特点实现高测量重复性(± 0.01 μm 或更小,取决于对象和测量条件)
不易受温度变化的影响
可以制造用于研究和检查的离线型和制造过程中使用的在线型。
反射型允许从薄膜的一侧测量
只能测量透明涂膜层(取决于测量条件)
产品规格测量厚度1 至 50 μm(用于薄材料)、10 至 150 μm(用于厚材料)
测量长度50-5000 毫米
测量间距1 毫米 ~
小显示值0.001 微米
电源电压ac100 伏 50/60 赫兹
工作温度限制5~45℃(测量时温度变化在1℃以内)
湿度35-80%(无冷凝)
测量区域φ0.6毫米
测量间隙约 30 毫米
关键词:检测设备

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