Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究
hakuto离子蚀刻机10ibe运用于铁电薄膜研究
某研究所在pzt铁电薄膜的电学性能研究中运用伯东hakuto离子蚀刻机10ibe.
hakuto离子蚀刻机10ibe技术参数:
基板尺寸
< ф8 x 1wfr
样品台
直接冷却（水冷）0-90度旋转
离子源
16cm考夫曼离子源
均匀性
±5% for 4”ф
硅片刻蚀率
20 nm/min
温度
<100
hakuto离子刻蚀机10ibe离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的kri考夫曼公司的考夫曼离子源kdc 160
伯东美国kri考夫曼离子源kdc160技术参数：
离子源型号
离子源kdc 160
discharge
dc热离子
离子束流
>650 ma
离子动能
100-1200 v
栅极直径
16 cm φ
离子束
聚焦,平行,散射
流量
2-30 sccm
通气
ar, kr, xe, o2, n2, h2,其他
典型压力
< 0.5m torr
中和器
灯丝
hakuto离子刻蚀机10ibe真空腔采用pfeiffer涡轮分子泵hipace 700,可抽的真空度< 1 · 10-7hpa,良好的保持真空腔的真空度.
研究表面采用伯东hakuto离子刻蚀机10ibe刻蚀工艺后,pzt薄膜的铁电性能几乎能恢复到蚀刻前,如矫顽场值、漏电流、疲劳性能等,铁电性能会得到更好的改善.有利于提高贴点存储密度,降低生产成本.
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Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究
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